プログラム（予定）

7月25日（木）

10：00～ 　　　[受付開始]

10：30～11：50　【入門セミナー】　ゾル-ゲル法の基礎と低密度多孔体への展開
　　　　　　　　　　　　　京都大学・金森 主祥　先生

13：20～13：40　 　日本ゾル－ゲル学会総会

13：40～　　　　　　　　開会の挨拶

13：45～14：25　【総合講演１】　ポリシルセスキオキサンをベースとした分離膜、断熱・防曇材料の開発
　　　　　　　　　　　　　広島大学　　　　　大下　浄治　先生

14：30～15：10　【企業化の経緯1】　光学デバイス用シロキサンコーティング剤の開発
　　　　　　　　　　　　　東レ株式会社　　　　　諏訪　充史　様

15：20～　　　　【一般講演】　　ショートプレゼンテーション（第 1 部）

16：30～　　　　【一般講演】　　（ポスター発表）

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7月26日（金）

　9：20～10：00　【総合講演2】　溶液反応を駆使したナノ材料の配向制御と機能開拓
　　　　　　　　　　　　　大阪公立大学　　　　　岡田　健司　先生

10：05～10：45　【企業化の経緯2】
　　　　　　　　　　　　　　産学連携によるシリカ系分離膜の事業化とカーボンニュートラルプロセスへの展開
　　　　　　　　　　　　　イーセップ株式会社　　　　　澤村 　健一　様

10：50～　　　　[一般講演]　　ショートプレゼンテーション（第2部）

13：00～14：30　[一般講演]　　ポスター発表

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日本ゾル-ゲル学会初代会長・京都大学名誉教授・作花済夫先生追悼特別セッション

14：40～15：10　【講演１】
　　　　　　　　　　　　　三重大時代の作花先生はゾル－ゲル法の世界をどのように切り拓かれたか
　　　　　　　　　　　　　関西大学　　　　　幸塚　広光　先生

15：10～15：40　【講演２】　シリカゲルモノリス合成の研究
　　　　　　　　　　　　　宇部エクシモ株式会社　　　　　足立　龍彦　様

15：50～16：20　【講演３】　見よう見まねのゾルーゲル研究
　　　　　　　　　　　　　慶應義塾大学　　　　　藤原　忍　先生

16：20～16：30　ポスター賞授与式

16：30　　　　閉会の挨拶

ポスター賞は以下の5名に授与されました（7月26日）

発表番号26 伊東 健太郎 　名古屋大学
発表番号28 竹崎 佑麻 　名古屋大学
発表番号32 野口 真司 　北海道大学
発表番号48 河野 七海 　広島大学
発表番号55 山口 祐貴 　産業技術総合研究所

　
　　　　　　　　　中西会長と受賞者の皆さん